深度报告-20221205-开源证券-至纯科技-603690.SH-公司首次覆盖报告_国内半导体清洗设备与高纯工艺系统龙头_前景可期_26页_2mb.pdf

电子/半导体 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 1/26 至纯科 技（603690.SH）2022 年 12 月 05 日 投 资评 级：买入（首次）日期 2022/12/2 当前股价(元)41.71 一年最高最低(元)56.16/26.66 总市值(亿元)133.51 流通市值(亿元)132.95 总股本(亿股)3.20 流通股本(亿股)3.19 近 3 个月换手率(%)174.15 股 价走 势图 数据来源：聚源 国 内 半 导 体 清 洗设 备 与 高 纯 工 艺系 统 龙 头，前 景 可期 公 司首次覆盖报告 刘翔（分析师）罗通（分析师）证书编 号：S0790520070002 证书编 号：S0790522070002 公司为国内半导体清 洗设 备与高纯系统龙头，首次 覆盖给予“买入”评 级 公司作 为 国 内半 导体 清洗 设备与 高纯 工艺 系统 龙头，同时衍生 了 电子 材料、部 件清洗及 晶圆 再生 等服 务 业 务，公 司 技 术实 力强 大，产品受 到市 场认 可，在国 产晶圆厂积 极扩 产及 国产 替代 趋势下，公 司在 手订 单饱 满，成 长动 力充 足。我 们 预计2022-2024 年 公司 可分 别实 现 归母 净利 润 3.47/4.98/6.52 亿元，EPS 1.08/1.56/2.04元，当 前股 价对 应 PE 38.5/26.8/20.5 倍，首 次覆盖 给 予“买 入”评级。高纯工艺系统应用广 泛，公司实力强大，成长 动力 充足 高纯工 艺系 统广 泛应 用于 泛半导 体及 生物 制药 等领 域。下游 集成 电路、光伏 及 生物 制 药 行 业 产 能 扩 张 以 及 因 技 术 进 步 带 来 的 技 术 改 造 将 为 高 纯 工 艺 系 统 带 来 新的需求 动力。客户 依赖 性 强及高 技术 要求 导致 了较 高的行 业壁 垒，从 而行 业 呈现出高等 级市 场集 中度 较高、低等 级市 场分 散的 竞争 格局。公司 作为 本土 供应 商，深耕高 纯工 艺系 统，在客 户资源、技 术积 累方 面等 均具有 优势，未来 增 长可 期。半导体清洗设备国产 替代 空间大，公司积极扩 产，布局细分赛道，前景 可期 据 SEMI 数据及 预测，2021 年全球 半导 体设 备销 售 额 1026 亿 美元，同 比增 长 44%，预计 2022 年达 1175 亿 美 元，同比+15%；2021 年 中 国大陆 半导 体设 备销 售额 为296 亿 美元，同 比增 长 56%。清洗 贯穿 半导 体全 产业 链，占 半导 体设 备份 额的 5%全球半 导体 清洗 设备 市场 集中度 较高，2020 年 清洗 设备 CR4 达 94%，国外 厂 商垄断，国 产替 代前 景广 阔。公司湿 法设 备可 以满 足目 前国内 产线 成熟 工艺 及先 进工艺涉 及的 全部 湿法 工艺。2022H1 公 司制 程设 备新 增订 单 8.06 亿 元，同比 增 长87.44%，实 现收 入 4.66 亿 元，同 比增 长 73.09%，毛 利率提 升 11.21 个 百分 比 达35.11%。公 司在 合肥 布局 晶圆再 生及 部件 清洗 项目，目前 已通 线试 产，是国 内首条投产 的 12 寸 晶圆 再生 产 线，部 件清 洗项 目为 国内 首条设 立完 整的 阳极 产线。公司为 国内 28 纳米 工艺 节 点的集 成电 路制 造厂 商提 供配套，投 资建 设了 半导 体级的大 宗气 体工 厂，2022 年初顺 利供 气，成长 动力 充足。风险提示：原 材料 价格 上 涨风险、客 户验 证不 及预 期、下 游需 求不 及预 期。财务摘要和估值指标 指标 2020A 2021A 2022E 2023E 2024E 营业收入(百万元)1,397 2,084 3,013 4,025 5,042 YOY(%)41.6 49.2 44.6 33.6 25.3 归母净利润(百万元)261 282 347 498 652 YOY(%)136.4 8.1 23.1 43.6 30.9 毛利率(%)36.8 36.2 37.8 39.0 39.7 净利率(%)18.7 13.5 11.5 12.4 12.9 ROE(%)8.2 6.6 7.5 9.8 11.4 EPS(摊薄/元)0.81 0.88 1.08 1.56 2.04 P/E(倍)51.2 47.4 38.5 26.8 20.5 P/B(倍)4.4 3.3 3.0 2.7 2.4 数据来源：聚源、开源证券研究所-64%-48%-32%-16%0%16%2021-12 2022-04 2022-08至纯科技 沪深300开源证券 证券研究报告 公司首次覆盖报告 公司研究 公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 2/26 目 录 1、国内 半导体 清洗设 备与高 纯工艺 系统龙 头，业 绩优秀.4 1.1、国内半 导体清 洗设备与 高纯工 艺系统 龙头，股权结 构集中.4 1.2、公司业 绩稳健，逐渐聚 焦半导 体领域.5 2、高纯 工艺系 统应用 广泛，公司实 力强大，成长 动力充 足.7 2.1、高纯工 艺系统 前景广阔，大型 项目中 国际供 应商仍 占据主 要份额.7 2.2、公司高 纯工艺 系统优势 明显，在手订 单充足.10 3、半导 体清洗 设备国 产替代 空间大，公司 积极扩 产，布 局细分 赛道，前景可 期.13 3.1、半导体 清洗设 备快速放 量，市 场空间 大，国 产替代 前景广 阔.13 3.2、公司湿 法清洗 设备掌握 核心技 术，积 极扩产 同时布 局细分 赛道，成长动 力充足.17 4、盈利 预测与 投资建 议.22 5、风险 提示.23 附：财务 预测摘 要.24 图 表目 录 图 1：公 司成立于 2000 年，2017 年 于科创 板上市.4 图 2：公 司股权 结构集 中.5 图 3：公司 2017-2021 年营收 快速增 长.6 图 4：归母 净利润 2018 年触 底回升.6 图 5：公 司的主 要收入 来自于 高纯工 艺系统，半导 体设备 板块业 务持续 发力.6 图 6：公司 2019 年-2021 年 毛利率 保持稳 定.7 图 7：半 导体设 备毛利 率保持 32%左右.7 图 8：公 司总体 费用 管 控良好.7 图 9：高 纯工艺 系统下 游应用 广泛.8 图 10：高纯 工艺系 统广泛应 用于集 成电路 行业.9 图 11：至纯科 技高纯 工艺系 统毛利 率较高.11 图 12：全球 半导体 设备销售 额预计 2022 年达 1175 亿美 元，同 比+15%.13 图 13：2021 年 中国大 陆半导 体设备 销售额 为 296 亿美元，占全 球半导 体设备 销售额 的 28.85%.13 图 14：半导 体设备 分为晶圆 制造设 备、封 装设备、测试 设备.14 图 15：2020 年 清洗设 备价值 量占半 导体设 备投资 份额的 5%左右.14 图 16：湿法 清洗占 清洗设备 的 90%.16 图 17：工艺 进步导 致清洗步 骤增加.16 图 18：2019 年 全球单 片清洗 设备占 比高达 74.6%.16 图 19：2020 年 全球半 导体清 洗设备 CR4 达 94%，国外 厂商垄 断.17 图 20：公司 半导体 清洗设备 营收高 速增长.20 图 21：公司 半导体 清洗设备 毛利率 持续提 升.20 图 22：公司 大宗气 体工厂位 于上海 嘉定，2022 年 初顺利 供气.22 表 1：公 司主要 经营业 务涉及 半导体、高纯 工艺系 统、光 传感器、晶圆 再生.4 表 2：工 艺介质 供应系 统/洁 净室配 套系统 主要供 应商有 法国液 化空气、中国 台湾帆 宣科技.9 表 3：高 纯工艺 系统供 应商中 国际供 应商在 半导体 行业等 大型项 目仍占 据主要 份额.10 表 4：公 司高纯 工艺系 统支持 性每年 交付超 过 5000 台套.12 公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 3/26 表 5：清 洗设备 分为干 法清洗 和湿法 清洗.15 表 6：公司 生产 单片、槽式设 备，同 时湿法 工艺全 覆盖.18 表 7：至 纯科技 与可比 公司相 比，可 以提供 28nm 制 程 湿 法全工 艺.19 表 8：公司 2019 年 发行可转 债为半 导体湿 法设备 和晶圆 再生项 目募集 资金.21 表 9：公司 2020 年 定增助力 湿法设 备扩产 并深入 布局晶 圆再生 项目.21 表 10：公司 2021 年发 行可转 债增加 对单片 湿法设 备和设 备零部 件投入.21 表 11：公司为 国内龙 头，估 值处于 低位.23 公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 4/26 1、国内半 导体清洗设备与高 纯工艺系统龙头，业绩优秀 1.1、国内 半 导体清 洗设 备与高 纯工 艺系统 龙头，股权 结构 集中 至纯科 技成 立于 2000 年，主要从 事 高纯工艺系统 和 半导体湿法清洗设备 的 研 发、生 产、销 售及 技术服 务。高 纯工艺 系统 业务包 括为电 子、生 物医 药及食 品饮料 等行业 的先进 制造 业企业 提供高 纯工艺 系统 的整体 解决方 案，以 及进 行高纯 气体供 应设备 和高纯 化学品输 送设备的 销售。半导体清 洗装备产 品主要 包括湿法 槽 式 清洗 设 备和 湿法单片式清洗设备，广泛应 用于 集成 电路、平 板显示 等领 域。图1：公司成立于 2000 年，2017 年于科创板上市 资料来源：公司公告、开源证券研究所 表1：公司主要经营业务涉 及半 导体、高纯工艺系统、光 传感器、晶圆再生 主 营业务 产品 应用 高纯工艺系统 气体高纯工艺设备及系统、化学品高纯工艺设备及系统、物料及水系统 广泛应用于泛半导体及生物制药、食品饮料等领域 半导体湿法清洗设备 湿法槽式清洗设备、湿法单片式清洗设备 主要应用于集成电路、微机电系统、平板显示等领域 光纤 传感器及光电子元器件（公司全资子公司波汇科技）光纤电网综合监测系统、光纤石化油库管道综合监控系统、光纤桥梁结构健康监测系统、光纤轨道交通综合监测系统、光电子元器件（滤光片、激光管帽、磁光开光、标准具）、激光气体 传感监测系统 主要应用于电力电网、石油石化、城市地下综合管廊、数据及通信等领域 晶圆再生 晶圆制程所需挡、控片进行加工回收、循环再利用 主要应用于晶圆制造领域 设备零部件 先进制程工艺的半导体高阶湿法工艺模块、单片式腔体、高纯度阀 主要应用于湿法设备和高纯工艺系统 资料来源：公司官网、公司公告、开源证券研究所 公 司 股 权结 构集 中。蒋渊 女 士、陆龙 英女士、尚纯投 资为一致 行动人，合计持股占股 本总 额 的 29.33%。其中，陆龙 英女 士系 蒋渊 女士的 母亲，尚 纯投 资系 由陆 龙英女士 控制 并担 任执 行事 务合伙 人的 有限 合伙 企业。蒋渊 女士 直接 持有 公 司 22.12%的股份，且 担任 公司 董事 长、总 经理，系 公司 实际 控制人。100%/2018/2021 2019 2020 2017 2000 603609.SH公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 5/26 图2：公司股权结构集中 数据来源：Wind、开源证券研究所 组织架构上，公司设 有 BU1-BU5 五个事业部开展 五种主营业务。自 2017 年上市元年，公司 投资 设立 了至 微科技 作为 湿法 设备 事业 部研发 生产 销售 的主 体（BU2)，子公司更名设立了 至纯集 成作为高纯工艺业 务经营 和发展的主体（BU1)，收 购了波汇科技 作为 光电 子业 务经 营和发 展的 主体（BU5)，2019-2020 年 公司 并购 了珐 成制药与广州 浩鑫，成 为公 司业 务中的 生物 制药 业务 经营 和发展 的主 体（BU4)，2020 年投资成立 了至 一科 技作 为先 进工艺 材料 业务 经营 和发 展的主 体（BU3)。1.2、公 司业 绩稳健，逐 渐聚焦 半导 体领域 营业收入迅速增长，新布 局业务贡献主要增长。2017-2021 年，公 司营 业收 入 由3.69 亿元 增长 至 20.84 亿 元，CAGR 54.16%。主 要 受益于 半导 体行 业客 户订 单增加及波汇 科技、珐 成制 药和 广州浩 鑫收 购完 成后 的报 表合并，其 中 2021 年湿 法 工艺设备和光 传感 光电 子业 务分 别贡 献 7.01 亿 元、3.03 亿 元的收 入。2022 年前 三季 度营 收19.25 亿元、扣 非净 利润 1.86 亿 元，分别 同比 增长 50.13%、130.54%。归母净利润自 2017 年起增速有所下滑，但 2019 年迅 速反弹。公司 2019 年归 母净利润 1.1 亿元，同 比大 幅增长 239.9%，主 要源 于 波汇科 技并 表的 利润 贡献。2018年净利 润同 比减 少主 要 系 2018 年公 司布 局并 开展 的 湿法设 备业 务板 块，该业 务在初期需要 投入 较多 的研 发成 本，因 此 2018 年研 发成 本 同比增 加约 2300 万 元，市 场费用增加 约 1100 万元 以及 管 理费用 增加 约 1600 万元。公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 6/26 图3：公司 2017-2021 年营收快 速增长 图4：归母净利润 2018 年触底回升 数据来源：Wind、开源证券研究所 数 据来源：Wind、开源证券研究所 高 纯 工艺 系统 业 务板 块保持 持 续增 长。其中气体及化学 品支持设 备业务国产替代进展 顺利,已 经成 为主 流 集成电 路制 造用 户的 认定 品牌且 出货 量 持 续提 升。2022 年上 半年主 要客 户订单 保持持 续增长，核 心客户 均为行 业一线 集成 电路制 造企业 如中芯、华 虹、长江 存储、合 肥 长鑫、士兰 微等。公司 2021 年高 纯工 艺系 统营 业收 入 10.78亿人民 币，占总 营 收 52%。半导体设备业务板块 开始 发力。公 司于 2015 年开 始 布局湿 法设 备研 发,2017 年形成 Ultron B200 和 Ultron B300 的槽 式湿 法清 洗设 备和 Ultron S200 和 Ultron S300的单片 式湿 法清 洗设 备产 品系列，2018 年开 始拿 到 1 亿级别 的订 单，2019 年 2 亿多，2020 年订 单超 过 5 亿，2021 年超 过 11 亿，2021 年拿到 13 位用 户的 重复 订单，期间又开拓 了 10 位新 用户，均为行 业内 主要 的晶 圆制 造企业。半 导体 设备 占比 从 2021年 的 8%提升至 2021 年的 34%。2021 年 全年湿 法设 备的订 单达 到 了 11.20 亿元，同比增 长 111.32%。公司 湿法 设备的 用户 已经 覆盖 国内 主流晶 圆制 造企 业，在 每 家用户处 的阶段 也都 从验证 和初次 的订单，随 着交付 逐步展 开到已 验证 工艺机 台的重 复订单。受益 于下 游行业 的需求，公司 将继 续倾斜 资源供 给，打 造产 品线更 广的泛 半导体领域 业务 板块。图5：公司的主要收入来自 于高 纯工艺系统，半导体 设备 板块业务持续发力 数据来源：Wind、开源证券研究所 3.69 6.74 9.86 13.97 20.84 19.25 0%20%40%60%80%100%0510152025营业收入（亿元）YOY0.49 0.32 1.10 2.61 2.82 1.63-50%0%50%100%150%200%250%300%0.00.51.01.52.02.53.0归母 净利 润（亿 元）YOY高 纯 工 艺系统,6.37，65%光 纤 传 感器,2.65，27%半 导 体 设备,0.82，8%2019 分产品收入（亿元，%）高 纯 工 艺系统,8.63，62%光 纤 传 感器,3.15，22%半 导 体 设备,2.18，16%2020分产品收入（亿元，%）高 纯 工 艺系 统,10.78,52%光 纤 传 感器,3.03,14%半 导 体 设备,7.01,34%2021 分产品收入（亿元，%）公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 7/26 公司盈利能力稳定，毛利 率 稳定在 36%左右。2018 年公司 毛利 率 受 新品 验证 及原材料 价格 涨价 影响，毛 利率有 所降 低。2019 年因 新拓展 的湿 法工 艺设 备及 光 传 感器件业 务毛 利率 较高，业 务结构 改善 拉动 毛利 率回 升至 34.4%，2020-2021 毛 利率维持在 36%左 右，2022 年前 三季度 毛利 率 35.48%。图6：公司 2019 年-2021 年毛利 率保持稳定 图7：半导体设备毛利率保 持 32%左右 数据来源：Wind、开源证券研究所 数 据来源：Wind、开源证券研究所 公司总体来看费用管 控良 好。2017-2019 年 公司 费 用率分 别为 19.8%、13.5%、16.5%，维持 在 19%上 下 波动。2019 年费 用率 16.5%，同 比提 升 3pcts，主要 系业务扩 张及 收购 波汇 科技并 表导 致销 售费 用率 和财务 费用 率小 幅增 长。2021 年至 2022年前三 季度 费用 率逐 步下 降，费 用率 管控 良好。图8：公司总体费用管控良 好 数 据来源：公司公告、开源证券研究所 2、高纯工 艺系统应用广泛，公司实力强大，成 长动力充足 2.1、高 纯工 艺系统 前景 广阔，大型 项目 中 国际 供应商 仍占 据主要 份额 泛半导体工艺伴随许 多种 特殊制程，会使 用到大量 超高纯（ppt 级别）的干湿 化39.0%28.2%34.4%36.8%36.2%35.48%13.3%4.7%11.2%18.7%13.6%8.73%0%5%10%15%20%25%30%35%40%45%毛利率 净利率39.02%28.19%26.44%31.76%34.71%53.59%55.33%50.43%32.08%29.85%32.48%0%10%20%30%40%50%60%2017 2018 2019 2020 2021高纯工艺集成系统 光传感及光器件半导体设备19.8%13.5%16.5%19.2%16.9%14.6%2.0%2.8%3.7%3.9%3.6%2.8%13.1%7.6%8.7%9.9%9.6%8.3%4.6%3.1%4.1%5.5%3.8%3.5%0%5%10%15%20%25%2017 2018 2019 2020 2021 2022Q1-Q3期间费用率 销售费用率 管理费用率 财务费用率公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 8/26 学 品。在 集成电 路领 域，高 纯工艺 系统主 要包 括高纯 特气系 统、大 宗气 体系统、高纯 化学 品系 统、研 磨液 供应 及回 收系 统、前 驱体 工艺 介质 系统 等。高纯工艺 系统 能将 制程所 需的 高纯介 质从源 头稳定 传输 至终 端 设备，同时保 证高 纯介质 不会因 吸附气体和 水分、脱放 气、产生 颗粒等 原因 受到 污染，使 介质满 足生 产工 艺的 纯度 要求。下游先 进制 造行 业的 高纯 工艺系 统直 接影 响了 工艺 设备的 运行 及投 产后 的成 品率。图9：高纯工艺系统下游应 用广 泛 资料 来源：至纯科技招股书 高纯 工 艺介质 供应系 统需满 足客 户三大 方面的 核心诉 求，即纯度 控制、工艺控制以及安全控制。（1）衡 量高纯 工艺 系统 的核 心指 标为不 纯度 控制 级数，纯 度控制已经 从 ppm（百 万分 之一）逐步 发展 到 ppb（十亿 分之一）及 以下。（2）工 艺控制指 的是对 气体 和化学 品的压 力、流 量以 及稳定 性等方 面的控 制。依托模 拟仿真 技术并 结合自 动化 控制方 法，发 行人能 够根 据不同 的工艺 介质特 性、用量要 求为客 户提供最优 方案，解 决各 类流 体控制 问题，确 保客 户持 续稳定 的气 液供 应。（3）获取关于 工艺环 境和 工艺介 质的安 全信息，对 工艺危 害进行 分析计 算，识别评 估可能 存在的风险，并 将解 决方 案落 实在设 计方 案中，实 现装 备的本 质安 全。在 行业 发展上，以 不纯 物控 制为 核心，行业 的发 展目 标从 被动满 足客 户的 工 艺要 求逐步 演变 成为客 户提供 整体解 决方 案。在 源头上，高纯 工艺 系统行 业可以 为客户提供 高纯 工艺 介质；在 系统建 成后，可 以将 定期 检测服 务衍 生 至 7x24 小 时 的不间断 监控、系统 运行托 管，还 可以通 过分 析数 据 帮助客 户改进 生产 工艺。行业价 值链的扩展 为行 业未来 发 展提 供了广 阔空 间。高纯工艺系统广泛应 用于 泛半导体（集成电路、平 板显示、光伏、LED 等）领域，下 游行 业产能 扩张 以及 技术 改造 将为行 业带 来新 的需 求动 力。作为下游 行业 新建、改 建等 固定 资产 投资 的重要 组成 部分，根 据 IC Insights 半导体 资本 支出 数 据和SEMI 半导 体设 备市 场数 据，我 们 预计 高纯 系统 的搭 建 占总体 固定 资产 投资 的 5-8%，因此下 游行 业的 发展 壮大 会直接 影响 对 本 行业 的需 求。公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 9/26 图10：高纯工艺系统广泛应 用于 集成电路行业 资料 来源：至纯科技招股书 20 世纪 70 年代，工 艺介 质 供应系 统行 业开 始在 国外 发展，并逐 步形 成若 干一 流的 系统供 应商。这些 供应商 不仅拥 有先 进的技 术，而 且和下 游行 业中的 跨国企 业建立 了良好 的合 作关系。随着 下游行 业在 中国的 发展，工艺介 质供 应系统 的国际 供应商 也随之 将业 务扩展 至中国，主要 以法 国液化 空气集 团、中国 台湾 帆宣 系统科 技股份 有限公 司为 代表。大陆市 场方面 以往 集成电 路和平 板显示 行业 客户在 挑选工 艺介质 供应系 统供 应商时，出于 最小化 工艺 技术风 险的考 虑，往 往只 考虑中 国 台湾、日韩、欧美 等背 景的供 应商。目前，国家 在积极 推动产 业链的 国产 化率，中国大 陆企业 的投资 也将 超过国 外企业 在中国 的投 资。相 对国外 企业，中国 的客户 也更愿 意给国 内的制 造商 一个平 等竞争 的机会，既 能够降 低建厂 成本，又能 确保产 品质量 的稳定性。表2：工艺介质供应系统/洁净室配套系统 主要供应商 有 法 国液化空气、中国台湾 帆 宣科技 公 司名 公 司简介 法国液化空气集团（0NWF.L）成立于 1902 年，是全球领先的 工业气体和医用气体以及相关服务的跨国集团公司。液化空气（中国）投资有限公司是法国液化空气集团在中国注册的全资子公司，负责管理在中国所有的投资项目，对外投资的公司数量已达近 70 家，主要分布于华北、华东地区。帆宣系统科技股份有限公司（6196.TW）成立于 1988 年，主要经营业务 包含洁净室的规划、设计、施工等服务，并可提供气体、化学、纯废水处理、弱电及自动控制系统等专业服务。帆宣系统科技股份有限公司于 2003 年在大陆成立全资子公司上海吉威电子系统工程有限公司，主要从事大陆地区的相关业务。汉唐集成股份有限公司（2404.TW）成立于 1982 年，主要经营业务包括半导体、光电等高科技厂房整厂、无尘室、控制、机电、特殊制 程系统建造、设计、规划顾问工作及维护运转服务。东横化学株式会社 东横化学株式会社成立于 1953 年，主营业务包括气体销售及供气设备制造、气体管道安装等。东京化学株式会社于 2002 年在上海成立了全资子公司东横气体设备（上海）有限公司，主要从事大陆地区的相关业务。至纯科技 成立于 2000 年，为先进制造业的高科技企业提供高纯工艺系统的解决方案，业务包括高纯工艺系统与高纯工艺设备的设计、加工制造、安装以及配套工程、检测、厂务托管、标定和维护保养等增值服务。资料来源：至纯科技招股书、开源证券研究所 公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 10/26 客 户依 赖性 强及 技术 要求较 高导 致了 较高 的行 业壁垒。泛半导体行业产品成品率 的高低 依赖 于生产 工艺过 程中的 不纯 物控制，任何 供气故 障都 会带来 较大的 经济损 失，行 业的 下游客 户对优 质供应 商有 较高的 忠诚度，为新 进入 企业设 置了较 高的客户壁 垒；同时 高纯 工艺 系 统行业 从诞 生开 始就 具有 多学科 交叉 的特 点，需要 物 理、化 学、机 械、电子等 多门学 科的背 景知 识。同 时随着 下游行 业的 技术发 展，客 户对生产工 艺中 不纯 物污 染的 控制要 求从 百万 分之 一（ppm）提高到 了现 在的 万亿 分之一（ppt），技 术要 求较 高。具 有承 接大项 目实力 与经验 的本 土企业 较少，呈现出 高等 级市场 集中度 较高、低 等 级市 场较 为分 散 的竞争 格 局。国际供应商 一直以大 陆的美国 企业或 中国台湾 企业 为主要 客户，单项 业务规 模较大，在 半导体 行业等 大型项 目上 仍占 据 主要份 额。目 前部分 本土 供应商 的产品 和服务 已经 顺利进 入全球 一线客 户，正逐步 实现进 口替代。行业 内技 术领先 且具有 承接大 项目 实力与 经验的 本土企 业较 少，但 整 体市 场占有率持 续提 升。表3：高纯工艺系统供应商 中 国 际供应商 在半导体行 业等 大型项目仍占 据主要 份额 特点 代 表公司 国际供应商 以大陆的美国企业或 中国台湾企业为主要客户：技术积淀深厚，单项业务规模较大，在半导体行业等大型项目上仍占 据主要份额。凯耐第斯（美国）、森松（日本）、帆宣科技（中国台湾）本土主流供应商 以本土企业为主要客户：数量不多，但是整体的市场占有率持续提升，单家供应商的年营业收入一般在 8000 万以上，少数供应商年营收达到数亿。至纯科技、正帆科技、朗脉股份 小规模供应商 设计、生产水平较低，以劳务分包为主，无法为客户提供整体解决方案，年营业收入一般低于 2000 万元。/资料来源：至纯科技招股书、开源证券研究所 2.2、公 司高 纯工艺 系统 优势明 显，在手订 单充 足 公 司作 为本土 供应商，深耕 高纯 工艺系 统，在 客户资 源、技术积 累、客 户服务与质控方面等均具有 一定 优势，未来 增长可期。公 司 技 术优 势明 显。公司 形 成了以高 纯工艺 介质提纯、调配、输送和 处理，以及以不 纯物 控制 为核 心的 技术体 系，公司 高纯 工艺 系统已 经能 够实 现 ppb（十 亿分之一）级的 不纯 物控制，核心 技术强 于国 内竞争 者。公 司建立 了自 主研发 的科研 创新体系，拥有 上海 市市 级企 业技术 中心，下 设联 合实 验室，同时 旗下 设 有 2 个 院士 专家工作 站（半 导体 领域 和 光电子 领域）。2018 年公 司完成 上海 华 力 12 英寸 28nm 先进工艺 产线 的建 设，确立 了公司 在国 内高 纯工 艺系 统领域 的龙 头地 位。2022 年公司已 成功完 成了 多项高 纯工艺 系统核 心设 备及相 关控制 软件的 研发，通过 使用自 制设备与软 件替 代外 购。本土主流供应商中至 纯科 技毛利率较高。至 纯 科技 高纯工 艺系 统业 务收 入 2021年达 10.78 亿元，位 于本 土供应 商前 列，同时 在毛 利率方 面显 著优 于正 帆科 技。公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 11/26 图11：至纯科技高纯工艺系 统毛 利率较高 数 据 来源：Wind、开 源 证 券 研究 所 注：正 帆科 技 2018-2020 年数 据 为 工 艺 介 质供 应 系 统，2021年数 据为工艺介质供应系统及高端电子工艺设备合计；至纯科技为高纯工艺系统数 据 公 司 拥有 丰 富稳 定的 客户资 源。高纯工艺系统对 客户的 制程精度 与产品良 率至关 重要，客户 一般倾 向于选 择有良 好合 作基础 或经验 丰富的 供应 商。公 司通过 多年的经验 积累 和技 术开 发，产 品和服 务不 断完 善，在行 业 中形成 了良 好的 口碑 和信 誉，积 累了一 批高 端客户 和合作 伙伴，且基 本为各 自行业 的领军 企业 或主要 企业，高纯工 艺领域 如 长 江存储、上海 华力、中芯 国际、长江存 储、合 肥长 鑫、士 兰微、西安三星、无锡 海力 士等 众多 行业一 线客 户。2021 年 起，公司 将高 纯特 气设备、高 纯化 学品 供应 设备、研磨 液供 应设 备、前驱 体供应 设备、工艺 尾气液 处理设 备、干法机 台气体 供应模 块等 工艺支 持性的 设备作为单独 的分类。该类 设 备作为和 氧化/扩散、刻蚀、离子注 入、沉 积、研 磨、清洗等 工艺机 台的 工艺腔 体连为 一个工 作系 统的支 持性设 备，是 和工 艺良率 息息相 关的必 要设备。该 类设备 随着进 口替代 的展 开，在 高纯工 艺系统 中占 比越来 越高。公司已经成 为国 内该 类设 备的 领先者，每 年交 付的 各类 设备超 过 5000 台套。6.746.378.6310.786.7910.299.8514.7128.19%26.44%31.76%34.71%0%5%10%15%20%25%30%35%40%02468101214162018年 2019年 2020年 2021年至 纯 科 技营业收入(亿元)正 帆 科 技营业收入(亿元)至 纯 科 技毛利率(%)正 帆 科 技毛利率(%)公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 12/26 表4：公司高纯工艺系统支 持性 每年交付超过 5000 台套 产 品系列 产 品图片 气瓶柜 VMB 化学品柜 化学品附属设备 研磨液供应设备 单瓶气压式 LDS 高精度气体混配柜 M2000 大流量前驱体输送 BCD 载气鼓泡及气液分离装置 干式吸附 E100,E200D 加热水洗 H1500 资料来源：公司公告、开源证券研究所 公 司扩 产计 划顺 利进 行，在 手订 单充 足，业绩 增长 未来 可 期。以支持设备为主的 高纯工 艺系 统业务 也保持 持续增 长，订单创 出同期 新高。其中 气体及 化学品 设备国 产替代 进展 顺利，已经成 为主流 集成 电路制 造用户 的认定 品牌 且出货 量陡增。上海 工厂 疫 情后 全面复 产全力 追赶基 本填 补疫情 的产能 损失，启东 工厂完 成设备 制造爬坡，已实现满产。前 驱体 设备 和研 磨液 等设 备的国 产替 代也 取得 良好 进展，已 经在重要 用户 端陆 续交 付使 用。2022 年 上半 年主 要客 户订单 保持 持续 增长，核 心客 户公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 13/26 均 为行业 一线 集成电 路制造 企业如 中芯、华虹、长江 存储、合肥 长鑫、士兰微 等。随 着支持 设备 扩产计 划顺利 完成，未来 几年公 司有信 心获得 更多 下游客 户的订 单。该 业务板 块已 经形成 行业领 头羊的 竞争 优势，有效替 代并改 变了 原先由 国外气 体公司 垄断的 供给 格局，公司将 继续加 强打 造包括 技术优 势、制 造优 势、供 应链优 势等壁垒，持续 在国 内市 场保 持领先。公司中标长江存储 2.76 亿元特殊气体系统包彰 显实 力。2022 年 8 月 4 日，公 司中标长 江存 储国 家存 储器 基地项 目特 殊 气 体系 统包，中标 价格 为 2.76 亿 元（其中 国内设备 材 料 2.32 亿 元，安 装服 务 0.44 亿 元）。标的 主要内 容为 各类 工艺 气体（含 用于氧化/扩散、刻蚀、离 子 注入、沉 积等 干法 工艺）的 特气设 备，即 工艺 支持 性 设备，标 的包含 设计、安装 和调试 等服务。长 江存储 为国内 存储器 制造 厂商龙 头，公 司中标可见 公司 技术 与产 品实 力强大。据 公司 公告，2022Q1-3 公司 所有 业务 总新 增订单总额高 达 36.21 亿元，成 长确定 性强。3、半导体 清洗设备国产替代 空间大，公司积极 扩产，布局细分赛道，前景可期 3.1、半 导体 清洗设 备快 速放量，市 场空间 大，国产替 代前 景广阔 半 导 体设 备是 半 导体 产业链 的 基石。半导体设备属 集成 电路制造 上游支撑性行业，得 益于 半导 体行 业景 气周期，据 SEMI 数据及 预测，2021 年 全球 半导 体 设备销售额 1026 亿美 元，同比 增 长 44%，预计 2022 年达 1175 亿 美元，同 比+15%；2021年中国 大陆 半导 体设 备销 售额为 296 亿美 元，同比 增长 56%，占 全球 半导 体 设备销售额 的 28.85%。图12：全球半导体设备销售 额预 计 2022 年达 1175 亿美元，同比+15%图13：2021 年中国大陆半导体设备销售额为 296 亿美元，占全球半导体设 备销 售额的 28.85%数据来源：SEMI、开源证券研究所 数 据来源：SEMI、开源证券研究所 清 洗 贯穿 半导 体全 产业 链，占 半导 体设 备份 额的 5%。半导体设 备分为晶圆制造设备、封 装设 备、测试 设备，各占 比例 为 87%、5%、8%。其中 晶圆 制造 设 备又分为光刻、刻 蚀、沉 积等 多 个工序 环节，每 个晶 片在 整个制 造过 程中 需要 超过 200 道36541256664559871210261175-10%0%10%20%30%40%50%0200400600800100012001400全 球销售 额（亿 美元）YOY4965821311351872960%10%20%30%40%50%60%70%0501001502002503003502015 2016 2017 2018 2019 2020 2021中国大陆销售额（亿美元）YOY公司首次覆盖报告 请 务必参 阅正文 后面的 信息披 露和法 律声明 14/26 清洗步 骤，占所 有芯 片制 造工序 步 骤 30%以上，是 所有芯 片制 造工 艺步 骤中 占比最大的工 序。2020 年清 洗设 备占半 导体 设备 份额 达 5%，则测 算得 2021 年全 球/中 国半导体清 洗设 备市 场规 模 达 51.3 亿 美元/14.8 亿美 元。清洗设备分为干法清 洗和 湿法清洗，湿法清洗 占清 洗设备的 90%。湿 法工 艺 是指 使用腐 蚀性 或氧化 性较强 的溶剂 进行 喷雾或 擦洗，使硅表 面的 杂质与 溶剂发 生化学 反应，生成 可溶性 物质或 气体，从而 将晶圆 表面的 颗粒或 其他 金属离 子清洗 掉。干法工 艺 是 指不 使用 化学 溶剂的 清洗 技术，主 要包 括 等离子 清洗、超 临界 气相 清 洗、束 流清洗 等技 术。干 法清洗 主要是 采用 气态的 氢氟酸 刻蚀不 规则 分布的 有结构 的晶圆二氧 化硅 层，虽然 具有 对 不同薄 膜有 高选 择比 的优 点，但 可清 洗污 染物 比较 单 一，目前 在 28nm 及以 下技 术 节点的 逻辑 产品 和